导航
导航
NEWS INFORMATION
新闻资讯
对于半导体前工序的多种需求-大塚膜厚仪的特点和作用
2026-03-30 15:58:46

信息摘要:

本次研讨会介绍我司膜厚仪产品在半导体前工序,从裸晶片到配线工序的特点及应用。研讨会内容涉及半导体制造工序、晶圆厚度和氧化膜膜厚测量技术等。

5cf9f11a0aed8549ad95d9e3183453ea.png