膜厚量测仪 FE-300


膜厚量测仪 FE-300













产品信息

特 长

薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析

高性能的低价光学薄膜量测仪

藉由绝对反射率光谱分析膜厚

完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能

无复杂设定,操作简单,短時間內即可上手

线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)

测量项目

  • 绝对反射率测量

  • 膜厚解析(10层)

  • 光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)

产品规格


FE-300V

FE-300UV

FE-300NIR※1

对应膜厚

标准型

薄膜型

厚膜型

超厚膜型

样品尺寸

最大8寸晶圆(厚度5mm)

膜厚范围

100nm ~ 40μm

10nm ~ 20μm

3μm ~ 300μm

15μm ~ 1.5mm

波长范围

450nm ~ 780nm

300nm ~ 800nm

900nm ~ 1600nm

1470nm ~ 1600nm

膜厚精度

±0.2nm以內※2

-

重复再现性(2σ)

±0.1nm以內※3

-

测量时间

0.1s ~ 10s以內

量测口径

约φ3mm

光源

鹵素灯

UV用D2灯

鹵素灯

鹵素灯

通讯界面

USB

尺寸重量

280(W)× 570(D)×350(H)mm,约24kg

软体功能

标准功能

波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析

选配功能

材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析

※1 请于本公公司联系联系我们
※2 对比VLSI标准样品(100nm SiO2/Si),范围值同保证书所记载
※3 测量VLSI标准样品(100nm SiO2/Si)同一点位时之重复再现性。(扩充系数2.1)

应用范围

半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)
光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)

测量范例

  • PET基板上的DLC膜

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  • Si基板上的SiNx

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